哪里能找到CMP抛光液行业的发展趋势？

1. 哪里能找到CMP抛光液行业的发展趋势？

CMP抛光液又叫CMP研磨液，或CMP磨料，是平坦化工艺中研磨材料和化学添加剂的混合物，CMP 抛光液一般由超细固体粒子研磨剂(如纳米级 SiO2、Al2O3粒子等)、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等组成。固体粒子提供研磨作用，化学氧化剂提供腐蚀溶解作用。
抛光液的主要用途为：用于各类集成电路、蓝宝石及其他领域等的抛光过程，是用来辅助抛光、保护硅片免受划伤的一种必备化学耗材。


生产端来看
在高端半导体领域，国内厂商目前主要是安集微电子一家，公司客户遍及除大陆之外的美国、欧洲、新加坡、马来西亚、台湾等地区，其中包括数家全球知名的晶圆制造企业如，中芯国际、台积电和Intel等。半导体用CMP抛光液技术壁垒高，市场集中度极高，高端产品主要被日美企业垄断。
在中低端领域已基本国产化。国内厂商如上海新安纳电子科技有限公司，湖北海力天恒纳米科技有限公司，深圳市力合材料有限公司，湖南皓志科技股份有限公司，无锡易洁工业介质有限公司等，占有重要地位。
2017年中国CMP抛光液产量达到了538万升，预计2025年将达到4100万升；2017年产值为1.37亿元，预计2025年达到10亿元，2018-2025年复合增长率为21.9%。
从消费端来看
国内市场芯片用抛光液主要由Cabot Microelectronics、Dow Electronic Materials、Fujimi Incorporated、Air Products/Versum Materials、Fujifilm、Hitachi Chemical和安集微电子等主导。中低端市场，蓝宝石抛光液等主要由国内公司主导。
2017年中国CMP抛光液消费量达到了2137万升，预计2025年将达到9653万升。 
数据来源于QYReserach研究中心。